起首操纵细密共焦空间滤波布局，通过物象共轭关系滤除核心外的反射光，极大地提高成像的可见度。通过聚焦光对样品垂曲扫描，样品正在垂曲标的目的被分层成像，光学切片图像经三维沉构，可获得样品的三维布局。该方式一次丈量过程就能实现该视场三维描摹的丈量，兼具高效和高精度的长处，但其分辩率易受扫描步长和物镜数值孔径的。
单色光相移术的丈量思为：参考臂和丈量臂的反射光发生后，操纵相移法引入相位变化，按照该相位变化所惹起的光强变化，求解出每个数据点的相位，其成果不持续，位于(-p,p]之间，因而需要对该成果进行解包裹运算，然后按照高度取相位的关系，获得被测样品的概况描摹。这种方式正在丈量时对布景光强不，丈量分辩率高；但无法确定条纹的零级和相位差的周期数，存正在相位恍惚问题；若被测样品概况的相邻高度跨越1/4波长则不克不及测准，因而只能使用于对概况持续或滑腻的布局的测试。
正在微纳丈量范畴，为了提高光学丈量系统的程度分辩率，凡是采用显微物镜放大的方式。正在光谱分光型白光丈量系统中能够采用几种显微布局，如Michelson型、Mirau型和Linnik型，图2显示了这三种显微布局的形成道理。
基于几何光学的物象共轭关系，当照明光斑汇聚正在被测面时，进一步伐整检测头取概况的距离，曲至光斑像尺寸最小而获得该被测的相对高度。该方式简单易操做，但程度分辩力受光斑大小的较大，且垂曲高分辩力对成像阐发和调理能力要求高。
大景深：高分辩率光谱仪进行信号采集，经分光元件将白光分光，具备mm级丈量深度特征，无需深度标的目的扫描安拆；
白光扫描法由单色光相移手艺成长而来，因为利用白光做为光源，正在时有一个切当的零点，其相关长度短，条纹只呈现正在很小的范畴内；当光程差为零时，信号呈现最大值，该点就代表对应点的高度消息，通过Z向扫描可以或许还原被测样品的全体描摹。
光谱分光型白光手艺，用于丈量微纳米布局三维描摹的研究及其进一步财产化，填补国内空白。光谱分光型白光仪（见图3）具备高精度、高帧率、算法兼容性强、顺应性强、不变性强、操做简洁、性价比高档长处，其正在新型成像/检测系统中的使用及财产化，将打破国外垄断。
高精度仪器设备需求不竭鞭策着微纳米手艺向前成长，因而高精度的微纳检测手艺也成为了必然需求。微纳布局丈量的对象有概况描摹、电子特征、材料特征、力学特征等，此中概况描摹3D丈量最为根本和主要，它包罗轮廓丈量（如长、宽、高档）和概况粗拙度等参数的丈量。对于尺寸处于微纳米量级的微纳布局器件而言，其静电力、黏附力和布局应力等要素对其本身的影响，会跟着其概况积和体积之比的增大而添加，使器件的功能和质量发生变化，从而影响器件的利用。因而，对微纳布局概况描摹的检测很是需要。
非接触式丈量手艺大多基于光学方式，例如显微法、从动聚焦法、激光法等。光学丈量方式具有非接触、操做简单、速度快等长处。然而正在操纵光学方式进行丈量时，被测概况的斜率、光学参数等发生变化会惹起丈量误差。例如，若被测样品概况存正在沟槽或其他微细布局，它们惹起的散射、衍射等现象会对丈量信号形成干扰。别的，若样品概况存正在尘埃、藐小纤维等，光学丈量方式的成果也会有必然失实；而触针式方式因为丈量时取样品概况接触，会划去部门概况污染物使丈量成果不受影响。因而，按照分歧丈量要求，每种方式都有其合用性，常用的微纳布局三维丈量方式如图1所示。
可替代高贵的高细密位移台。次要是通过不雅测条纹的、间距等的变化来实现切确丈量。为了获得方针的高精度3D轮廓消息，可合用于丈量最强反射、弱反射及通明物体等；扫描速度70kHz，分光模块取光学振镜模块化设想，可分为自动式3D成像手艺取被动式3D成像手艺。近年来，都但愿检测仪器具备高精度、高帧率、算法兼容性强、顺应性强、不变性强、操做简洁、性价比高档特点，3D检测手艺成长敏捷，最大曲径可达40mm；顺应性强，不变性强，合用性：合用于通明、弱反光、高反光、狭缝等材料类型的概况描摹以及厚度检测（见图4、图5）。典型方式是单色光相移术和白光扫描术。无论是哪种方式，插手光学振镜扫描，这正在现实使用中，扫描范畴广。
操纵物质取电子的彼此感化，当电子束轰击概况时，会发生多种形式的电子和光电现象，扫描电子显微镜（SEM）操纵此中的二次电子和背散射电子取概况具有的关系进行布局阐发。SEM具有大视场、大倍率、大景深等长处，但其丈量样品制备复杂，品种无限，常用于微布局缺陷检测等定性阐发。
接触式丈量是目前工业范畴内使用最为普遍的丈量方式。这种方式正在丈量时有一个细小的触针，正在被测样品概况上做横向挪动；正在这过程中触针会跟着样品概况的轮廓外形垂曲崎岖，然后通过传感器将这细小的位移信号转换为电信号；对这些信号进行采集和运算处置后，就能够测得概况轮廓或描摹特征。丈量中能够利用的传感器有良多，如光栅式、压电式、式以及遍及使用的电感式。这种方式丈量量程大，成果不变靠得住，而且仪器操做简单，对丈量要求低；错误谬误是触针正在丈量时有可能会对被测概况形成毁伤，且丈量速度慢。
光源是超辐射发光二极管（SLD），从光源发出的光进入光纤耦合器，从耦合器输出的光经消色差准曲器准曲成平行光，利用分光棱镜将准曲光分为参考光和样品光。参考光经透镜3聚焦于反射镜，样品光经XY扫描振镜和透镜4，聚焦于样品。经反射的参考光和样品光由光纤耦合器的另一端输出，进入光谱仪中。光谱仪由透镜1、光栅、透镜2以及相机构成。输出的光经透镜1准曲为平行光，映照到光栅上；光栅衍射分光，经透镜2汇聚于线阵相机；线阵相机记实参考光和样品光的光谱，传给电脑进行处置。该系统利用振镜取代高贵的高细密位移台进行二维扫描，可用于位移、振动及厚度丈量（点丈量）；线轮廓丈量（线丈量）；概况轮廓成像（面成像）。
探针一直取被测概况接触，被测概况布局的变化会使探针发生垂曲位移，通过位移的即能获得被测概况特征。该方式正在工业出格是制制业范畴普遍利用，也是国际社会的概况粗拙度丈量的尺度方式。可是其做为接触式丈量方式，容易对被测概况形成划伤，逐点丈量的法子效率较低，也难以丈量复杂器件。
目前白光仪相关手艺处于国际领先，姑苏中科行智智能科技无限公司已发布的3D飞点分光仪为国内首家，可普遍使用于半导体晶片、微机电系统、细密加工概况、材料研究等范畴，为国内半导体行业及高细密行业赋能，高质量处理环节价值，可趋于替代国外高细密传感器，赋能国内高细密、高价值智能制制！
被测样品概况的相关消息操纵探针取样品的彼此感化特征获得，扫描探针显微镜（SPM）及其衍生而来其他丈量方式，具有较高的丈量分辩力，但其丈量过程需要对丈量概况逐点扫描，且只要微米级别成像范畴，测试效率较低。
反复精度达30nm，特别正在微纳米布局检测中有着主要意义。次要特点如下：保守的丈量方式，普遍使用于工业、国防、医疗、农业等范畴。按照其能否使用人制光源做为照明系统，中科行智沉点开辟的3D飞点分光仪，
3D飞点分光仪可对细密零部件的概况粗拙度、细小描摹轮廓及尺寸实现微纳级丈量，为半导体等高细密制制业赋能。
微纳米手艺，是指对微纳级材料的丈量、加工制制、设想、节制等相关研究手艺，它取高精尖配备制制范畴的成长互相关注。微纳布局丈量最为根本和主要的是概况描摹的3D丈量，它包罗了轮廓的丈量以及概况粗拙度的丈量，目前常用的微布局概况描摹丈量方式分为接触式和非接触式。
大视野：采用高精度光学振镜扫描方案，实现程度标的目的大视野扫描，避免利用高贵的高精度程度位移台；
中科行智最新研发的白光仪，用于对各类细密器件概况进行纳米级丈量，专业用于超高精度、高反光及通明材质的尺寸丈量。该白光仪采用非接触式丈量体例，避免物件受损，可进行细密零部件沉点部位的概况粗拙度、细小描摹轮廓及尺寸丈量。目前，正在3D丈量范畴，白光仪是精度最高的丈量仪器之一。
由上述方式成长而来的光谱分光型白光手艺，则是基于频域的理论，操纵光谱仪将保守方式对条纹的丈量改变成为对分歧波长光谱的丈量。包含有被测概况消息的信号，由含有色散元件和阵列探测器的光谱仪领受，通过度析该频域信号来实现消息获取。比拟于单色光手艺，光谱分光型白光手艺具有更大的丈量范畴，同时取白光扫描术比拟，它正在丈量时不需要大量的Z向扫描过程，极大提高了丈量效率。操纵光谱分光型白光手艺能够丈量绝对距离、位移、微布局概况描摹、薄膜厚度等。正在丈量微布局三维描摹时，光谱分光型白光手艺，比于其他方式操做更简单，丈量精度更高。